永利总站娱乐-澳门新永利总站—欢迎体验

您好,欢迎永利总站娱乐官方网站! 收藏本站 | 联系我们 | 网站地图
 
15年永利会工经验
专业从事澳门新永利总站,澳门永利娱乐服务
网站首页 关于澳门永利赌场 永利皇宫官网 产品中心 工程业绩 新闻中心 技术支持 客户留言 联系我们  
 
产品系列
风淋室
货淋室
生物安全柜
超净工作台
澳门永利娱乐单元
FFU
过滤器
洁净层流罩
传递窗
空调箱
臭氧发生器
配件
 
新闻中心

洁净室中的温湿度控制

发布者:admin  发布时间:2017-06-28  点击:733
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。

湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产最佳温度范围为35—45%。
    
 
网站首页 | 关于澳门永利赌场 | 永利皇宫官网 | 产品中心 | 工程业绩 | 新闻中心 | 技术支持 | 客户留言 | 联系我们  
  Copyright© 2007 永利总站娱乐 All Rights Reserved.
公司地址:江苏无锡堰桥经济开发区堰丰路31号 电话:0510-80220739 传真:0510-80220752
豫ICP备11010231号-1
 
Baidu